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集成电路布图设计专有权公告(2014年6月4日)
集成电路布图设计专有权公告(2014年6月4日)
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2014-06-04 14:28:00
来源:国家知识产权局 作者:国家知识产权局
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概述
布图设计登记号:BS.135016010布图设计申请日:2013年12月13日公告日期:2014年6月4日公告号:9039布图设计名称:ADP5050布图设计类别: 结构:MOS 技术:CMOS 功能:其他布图设计权利人:美国亚德诺半导体公司布图设计权利人国籍:美国布图设计权利人地址:马萨诸塞州布图设计创作人:美国亚德诺半导体公司代理机构:中国国际贸易促进…
布图设计登记号:BS.135016010
- 布图设计申请日
- 2013年12月13日
- 公告日期
- 2014年6月4日
- 公告号
- 9039
- 布图设计名称
- ADP5050
- 布图设计类别
- 结构:MOS 技术:CMOS 功能:其他
- 布图设计权利人
- 美国亚德诺半导体公司布图设计权利人国籍:美国
- 布图设计权利人地址
- 马萨诸塞州
- 布图设计创作人
- 美国亚德诺半导体公司
- 代理机构
- 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理人
- 陈华成
- 布图设计创作完成日
- 2013年2月20日
- 布图设计首次商业利用日
- 2013年3月19日
布图设计登记号:BS.135016029
- 布图设计申请日
- 2013年12月13日
- 公告日期
- 2014年6月4日
- 公告号
- 9040
- 布图设计名称
- ADL5611
- 布图设计类别
- 结构:其他 技术:其他 功能:其他
- 布图设计权利人
- 美国亚德诺半导体公司布图设计权利人国籍:美国
- 布图设计权利人地址
- 马萨诸塞州
- 布图设计创作人
- 美国亚德诺半导体公司
- 代理机构
- 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理人
- 陈华成
- 布图设计创作完成日
- 2013年1月31日
- 布图设计首次商业利用日
- 2013年2月7日
布图设计登记号:BS.135016037
- 布图设计申请日
- 2013年12月13日
- 公告日期
- 2014年6月4日
- 公告号
- 9041
- 布图设计名称
- ADG1412F
- 布图设计类别
- 结构:MOS 技术:其他 功能:其他
- 布图设计权利人
- 美国亚德诺半导体公司布图设计权利人国籍:美国
- 布图设计权利人地址
- 马萨诸塞州
- 布图设计创作人
- 美国亚德诺半导体公司
- 代理机构
- 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理人
- 陈华成
- 布图设计创作完成日
- 2012年11月1日
- 布图设计首次商业利用日
- 2013年5月1日
布图设计登记号:BS.135016045
- 布图设计申请日
- 2013年12月13日
- 公告日期
- 2014年6月4日
- 公告号
- 9042
- 布图设计名称
- ADP7182
- 布图设计类别
- 结构:MOS 技术:CMOS 功能:其他
- 布图设计权利人
- 美国亚德诺半导体公司布图设计权利人国籍:美国
- 布图设计权利人地址
- 马萨诸塞州
- 布图设计创作人
- 美国亚德诺半导体公司
- 代理机构
- 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理人
- 陈华成
- 布图设计创作完成日
- 2012年12月18日
- 布图设计首次商业利用日
- 2013年2月6日
布图设计登记号:BS.135016053
- 布图设计申请日
- 2013年12月13日
- 公告日期
- 2014年6月4日
- 公告号
- 9043
- 布图设计名称
- ADUM3190TC
- 布图设计类别
- 结构:其他 技术:CMOS 功能:其他
- 布图设计权利人
- 美国亚德诺半导体公司布图设计权利人国籍:美国
- 布图设计权利人地址
- 马萨诸塞州
- 布图设计创作人
- 美国亚德诺半导体公司
- 代理机构
- 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理人
- 陈华成
- 布图设计创作完成日
- 2012年9月17日
- 布图设计首次商业利用日
- 2013年2月26日
布图设计登记号:BS.135016061
- 布图设计申请日
- 2013年12月13日
- 公告日期
- 2014年6月4日
- 公告号
- 9044
- 布图设计名称
- ADuM1280IC
- 布图设计类别
- 结构:MOS 技术:CMOS 功能:其他
- 布图设计权利人
- 美国亚德诺半导体公司布图设计权利人国籍:美国
- 布图设计权利人地址
- 马萨诸塞州
- 布图设计创作人
- 美国亚德诺半导体公司
- 代理机构
- 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理人
- 陈华成
- 布图设计创作完成日
- 2012年4月20日
- 布图设计首次商业利用日
- 2012年4月20日
布图设计登记号:BS.13501607X
- 布图设计申请日
- 2013年12月13日
- 公告日期
- 2014年6月4日
- 公告号
- 9045
- 布图设计名称
- ADL5545
- 布图设计类别
- 结构:其他 技术:其他 功能:其他
- 布图设计权利人
- 美国亚德诺半导体公司布图设计权利人国籍:美国
- 布图设计权利人地址
- 马萨诸塞州
- 布图设计创作人
- 美国亚德诺半导体公司
- 代理机构
- 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理人
- 陈华成
- 布图设计创作完成日
- 2013年2月15日
- 布图设计首次商业利用日
- 2013年4月26日
布图设计登记号:BS.135016088
- 布图设计申请日
- 2013年12月13日
- 公告日期
- 2014年6月4日
- 公告号
- 9046
- 布图设计名称
- ADF4351
- 布图设计类别
- 结构:Bi-MOS 技术:CMOS 功能:线性
- 布图设计权利人
- 美国亚德诺半导体公司布图设计权利人国籍:美国
- 布图设计权利人地址
- 马萨诸塞州
- 布图设计创作人
- 美国亚德诺半导体公司
- 代理机构
- 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理人
- 欧阳帆
- 布图设计创作完成日
- 2011年9月28日
- 布图设计首次商业利用日
- 2012年1月13日
布图设计登记号:BS.135016215
- 布图设计申请日
- 2013年12月27日
- 公告日期
- 2014年6月4日
- 公告号
- 9047
- 布图设计名称
- ADV7682
- 布图设计类别
- 结构:MOS 技术:CMOS 功能:其他
- 布图设计权利人
- 美国亚德诺半导体公司布图设计权利人国籍:美国
- 布图设计权利人地址
- 马萨诸塞州
- 布图设计创作人
- 美国亚德诺半导体公司
- 代理机构
- 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理人
- 刘倜
- 布图设计创作完成日
- 2012年10月10日
- 布图设计首次商业利用日
- 2012年12月6日
布图设计登记号:BS.135016223
- 布图设计申请日
- 2013年12月27日
- 公告日期
- 2014年6月4日
- 公告号
- 9048
- 布图设计名称
- ADG5419
- 布图设计类别
- 结构:Bi-MOS 技术:CMOS 功能:线性
- 布图设计权利人
- 美国亚德诺半导体公司布图设计权利人国籍:美国
- 布图设计权利人地址
- 马萨诸塞州
- 布图设计创作人
- 美国亚德诺半导体公司
- 代理机构
- 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理人
- 刘倜
- 布图设计创作完成日
- 2012年12月18日
- 布图设计首次商业利用日
- 2013年3月31日
布图设计登记号:BS.135016231
- 布图设计申请日
- 2013年12月27日
- 公告日期
- 2014年6月4日
- 公告号
- 9049
- 布图设计名称
- ADUM3190IC
- 布图设计类别
- 结构:MOS 技术:CMOS 功能:其他
- 布图设计权利人
- 美国亚德诺半导体公司布图设计权利人国籍:美国
- 布图设计权利人地址
- 马萨诸塞州
- 布图设计创作人
- 美国亚德诺半导体公司
- 代理机构
- 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理人
- 刘倜
- 布图设计创作完成日
- 2012年9月17日
- 布图设计首次商业利用日
- 2013年2月26日
布图设计登记号:BS.13501624X
- 布图设计申请日
- 2013年12月27日
- 公告日期
- 2014年6月4日
- 公告号
- 9050
- 布图设计名称
- AD8479
- 布图设计类别
- 结构:Bipolar 技术:其他 功能:线性
- 布图设计权利人
- 美国亚德诺半导体公司布图设计权利人国籍:美国
- 布图设计权利人地址
- 马萨诸塞州
- 布图设计创作人
- 美国亚德诺半导体公司
- 代理机构
- 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理人
- 刘倜
- 布图设计创作完成日
- 2011年10月5日
- 布图设计首次商业利用日
- 2012年2月27日
布图设计登记号:BS.135016258
- 布图设计申请日
- 2013年12月27日
- 公告日期
- 2014年6月4日
- 公告号
- 9051
- 布图设计名称
- ADL5544
- 布图设计类别
- 结构:其他 技术:其他 功能:其他
- 布图设计权利人
- 美国亚德诺半导体公司布图设计权利人国籍:美国
- 布图设计权利人地址
- 马萨诸塞州
- 布图设计创作人
- 美国亚德诺半导体公司
- 代理机构
- 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理人
- 刘倜
- 布图设计创作完成日
- 2013年2月15日
- 布图设计首次商业利用日
- 2013年4月26日